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集成电路布图设计实质上是一种图形设计,但它并非是工业品外观设计,不能适用专利法保护。因为,从专利法的保护对象来看,针对产品、方法或其改进所提出的新的技术方案要求具有创造性、新颖性和实用性。这一点对集成电路布图设计而言往往难以做到。从专利的的取得程序,专利申请审批的时间过长,成本较高,不利于技术的推广和应用。
集成电路布图设计虽然在形态上是一种图形设计,但它既不是一定思想的表达形式,也不具备艺术性,因而不在作品之列,不能采用著作权法加以保护。而且集成电路布图设计更新换代较快,若用著作权法来保护布图设计,则会因著作权的保护期过长而不利于集成电路业的发展。
取得的程序:
(1)申请:向国家知识产权行政部门提交申请文件;
(2)初审;
(3)登记并公告;
(4)对驳回申请的复审;
(5)登记的撤销。
(四)集成电路布图设计申请阶段需提交的材料:
(1)集成电路布图设计登记申请表。
(2)集成电路布图设计的复制件或者图样。
(3)集成电路布图设计已投入商业利用的,提交含有该集成电路布图设计的集成电路样品。 集成电路布图设计在申请日之前已投入商业利用的,申请登记时应当提交4件含有该集成电路布图设计的集成电路样品。
(4)国家知识产权局规定的其他材料。
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