具统计，铝电解电容器在电容器中占据第二位的产量排名，在现在的电子产品中，大多数的电子产品都会用到电解电容器，这也就说明了电解电容器存在是不缺少的。初的电解电容一般是直流电容器，随着时代的变化，科技的发展，电解电容器已经从直流发展到交流，从低温发展到高压。从通用型发展到特殊型 ，从一般的结构发展到片式、扁平、书本式等结构。其上限容量也已经扩展到4F左右，使用频率已达到30Khz，工作温度范围也已达到-55℃-125℃，有的甚至已经高到150℃，额定 电压已达到700V。

　　随着铝电解电容器的发展，导致了电解电容的基础：

　　1.在材料上，现在用的铝箔在成分和结构上都有讲究，已经不再要求高纯。例如，对阳极箔，要求其纯度高到适当就可以了，为了提高起始腐蚀点数，机械强度及介质氧化膜的性能，箔中要适当的含有某些杂质，并有的采用合金箔。在结构上，对低压箔，不要求立方结构占的比例很大 ，但是对高压箔 ，则要求这种结构占到80%-90%以。对阴极箔，为了提高其比容，则要求晶粒无规则取向的含杂量一定的合金铝箔。工作电解液有三种成分构成，即溶剂，溶质和添加物，如已长期应用的电解液，其成分为乙二醇、甘油、硼酸和氨水。由于铝电解电容器的发展，这种 电解液已远不能满足要求，故产生了许多新型电解液，以降低电容器的工作温度范围（-55℃-125℃)。

　　2.在工艺上，除了已经实现 生产机械化和自动化以外，铝电解电容器在工艺上的进展主要是腐蚀相赋能两个工艺 。铝箔的腐蚀系数不但已经很高（低压电容器箔已达100，高压达25），而且可以根据对电容器的要求，腐蚀出不同坑洞形貌的铝箔。腐蚀工艺是一种腐蚀液种类，浓度、温度、原箔成分，结构 、表面状态、腐蚀过程中箔速度以及电源类型，波形、频率、电压等的动态平衡工艺。问题是如何得出佳的动态平衡和如何根据要求确定出传平衡。因此，对现在的腐蚀工艺还不能说已经达到了佳状态。 现在的赋能工艺已经可以制造出优质的介质氧化膜，而月还可以根据要求不同，制造出不同的介质氧化膜，例如，对直流电容器，制造出γ和γ’型结晶氧化铝膜，对交流电容器，则为非晶膜。赋能工艺大的进展是能将氢氧化铝膜转变成介质氧化铝膜、并能在其表面形成防水层。此外，还能消除介质膜的疵点和龟裂。

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